このサイトでは学生や一般の方向けに原子層堆積(ALD, Atomic Layer Deposition)技術などの原理などを楽しく説明しています。

更新情報
2024年5月13日  九州大学様よりALD装置AT-200Mを1台、受注致しました。
2024年5月10日  国内の私立大学様よりオゾン発生機ATO3を1台、受注致しました。
2024年3月26日  アジアのお客様よりAT-410を1台、受注致しました。
2024年1月26日 表面技術協会『表面技術』(「小特集:原子層スケールで制御する表面処理技術」)で執筆した粉体ALDの解説記事へのリンクをお知らせします。
2024年1月17日 装置AT-200MAT-650Pの更新カタログをアップロードしました。AT-200Mでは粉体用コーティング機構もオプションで備えております。
2024年1月10日 熱式ALD装置AT-410でTiNのプロセスを開発しました。
2023年12月27日 Chipmetrics社製高アスペクト比確認用チップを10個を産総研様より受注致しました。
2023年12月6日 オゾン発生機を1台、アジアのお客様より受注致しました。(なおオゾン発生機は本年8月よりバージョンアップしております。)
2023年11月20日 AT-200Mを1台、徳島大学様より受注致しました。(しばらく更新せずにすみません。)
2023年8月20日  Chipmetrics社製高アスペクト比確認用チップを10個単位で受注致しました。
2023年6月1日 弊社代理店のオランダDelft IMP社(粉体用ALD装置メーカー)が社名変更し、Powall社となりました。
2023年5月22日 東京大学様とAT-410の売買に関する契約書を締結致しました。
2023年1月5日 AT-410とATOzoneをアジアのお客様より1台づつ受注致しました。
2019年5月11日 MLD (Molecular Layer Deposition)の初期開発について調査し、その結果を公開しました。

デモ機(Anric Technologies社AT-410)の見学、新規材料開発のコンサルティングも承っております。ご相談下さい。

MENU
Translate »